欢迎您加入月均活跃用户100万+的科研社区!如您有任何系统建议,请点此洽谈。
;如有合作推广需求,请近期推荐: | 热 全流程投稿协助套餐服务 | 热 SCI论文AI润色+人工QC服务 | 热 Springer Nature特刊征稿 | 新 已发表SCI?是时候来Springer出书了! |
![]() |
基本信息 | 登录收藏 | |||||||||||||||||||||||||||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
期刊名字![]() | JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A J VAC SCI TECHNOL A (此期刊被最新的JCR期刊SCIE收录) LetPub评分 5.9
56人评分
我要评分
声誉 6.5 影响力 4.6 速度 9.4 | |||||||||||||||||||||||||||||||
期刊ISSN | 0734-2101 | ![]() 蝌蝌APP,让您与同行交流更轻松
![]() | ||||||||||||||||||||||||||||||
2024-2025最新影响因子 (数据来源于搜索引擎) | 2.1 点击查看影响因子趋势图 | |||||||||||||||||||||||||||||||
实时影响因子 | 截止2025年5月19日:2.091 | |||||||||||||||||||||||||||||||
2024-2025自引率 | 9.50%点击查看自引率趋势图 | |||||||||||||||||||||||||||||||
五年影响因子 | 2.7 | |||||||||||||||||||||||||||||||
JCI期刊引文指标 | 0.47 | |||||||||||||||||||||||||||||||
h-index | 100 | |||||||||||||||||||||||||||||||
CiteScore ( 2025年最新版) |
| |||||||||||||||||||||||||||||||
期刊简介 |
| |||||||||||||||||||||||||||||||
期刊官方网站 | http://avspublications.org/jvsta/ | |||||||||||||||||||||||||||||||
期刊投稿格式模板 VIP专享 |
| |||||||||||||||||||||||||||||||
期刊投稿网址 | http://jvsta.peerx-press.org/cgi-bin/main.plex | |||||||||||||||||||||||||||||||
期刊语言要求 | 经LetPub语言功底雄厚的美籍native English speaker精心编辑的稿件,不仅能满足JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A的语言要求,还能让JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A编辑和审稿人得到更好的审稿体验,让稿件最大限度地被JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A编辑和审稿人充分理解和公正评估。LetPub的专业SCI论文编辑服务(包括SCI论文英语润色,同行资深专家修改润色,SCI论文专业翻译,SCI论文格式排版,专业学术制图等)帮助作者准备稿件,已助力全球15万+作者顺利发表论文。部分发表范例可查看:服务好评 论文致谢 。
提交文稿 | |||||||||||||||||||||||||||||||
是否OA开放访问 | No | |||||||||||||||||||||||||||||||
通讯方式 | A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502 | |||||||||||||||||||||||||||||||
出版商 | AVS Science and Technology Society | |||||||||||||||||||||||||||||||
涉及的研究方向 | 工程技术-材料科学:膜 | |||||||||||||||||||||||||||||||
出版国家或地区 | UNITED STATES | |||||||||||||||||||||||||||||||
出版语言 | English | |||||||||||||||||||||||||||||||
出版周期 | Bimonthly | |||||||||||||||||||||||||||||||
出版年份 | 0 | |||||||||||||||||||||||||||||||
年文章数 | 329点击查看年文章数趋势图 | |||||||||||||||||||||||||||||||
Gold OA文章占比 | 13.26% | |||||||||||||||||||||||||||||||
研究类文章占比: 文章 ÷(文章 + 综述) | 98.18% | |||||||||||||||||||||||||||||||
WOS期刊JCR分区 ( 2024-2025年最新版) | WOS分区等级:3区
| |||||||||||||||||||||||||||||||
中国科学院《国际期刊预警 名单(试行)》名单 | 2025年03月发布的2025版:不在预警名单中 2024年02月发布的2024版:不在预警名单中 2023年01月发布的2023版:不在预警名单中 2021年12月发布的2021版:不在预警名单中 2020年12月发布的2020版:不在预警名单中 | |||||||||||||||||||||||||||||||
中国科学院期刊分区 ( 2025年3月最新升级版) | 点击查看中国科学院期刊分区趋势图
| |||||||||||||||||||||||||||||||
中国科学院期刊分区 ( 2023年12月升级版) |
| |||||||||||||||||||||||||||||||
中国科学院期刊分区 ( 2022年12月旧的升级版) |
| |||||||||||||||||||||||||||||||
SCI期刊收录coverage | Science Citation Index Expanded (SCIE) (2020年1月,原SCI撤销合并入SCIE,统称SCIE) Scopus (CiteScore) | |||||||||||||||||||||||||||||||
PubMed Central (PMC)链接 | http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=0734-2101%5BISSN%5D | |||||||||||||||||||||||||||||||
平均审稿速度 | 网友分享经验: 一般,3-6周 | |||||||||||||||||||||||||||||||
平均录用比例 | 网友分享经验: 容易 | |||||||||||||||||||||||||||||||
LetPub助力发表 | 经LetPub编辑的稿件平均录用比例是未经润色的稿件的1.5倍,平均审稿时间缩短40%。众多作者在使用LetPub的专业SCI论文编辑服务(包括SCI论文英语润色,同行资深专家修改润色,SCI论文专业翻译,SCI论文格式排版,专业学术制图等)后论文在JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A顺利发表。
快看看作者怎么说吧:服务好评 论文致谢 。 提交文稿 | |||||||||||||||||||||||||||||||
期刊常用信息链接 |
|
|
|
中国学者近期发表的论文 | |
1. | Corrosion resistance and antimicrobial properties of ZnO-Ce2O3 coatings by magnetron sputtering Author: Tu, Rong; Qin, Zixiong; Wu, Wei; Zheng, Long; Xu, Qingfang; Gao, Tenghua; Zhang, Song; Dai, Honglian; Goto, Takashi Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2025; Vol. 43, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/6.0004466 DOI |
2. | Measurement and analysis of solid-liquid boundary slip on surfaces with different microstructures using contact mode atomic force microscope Author: Li, Jing; Fan, Yuchen; Wang, Yanwei; Lv, Haiting; Cheng, Rui; Qu, Taixu Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2025; Vol. 43, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/6.0004527 DOI |
3. | Gallium oxide/indium gallium zinc oxide heterojunction Schottky barrier thin-film transistors with ultrahigh 2D electron density over 6 x 1013/cm2 Author: Zhao, Jinxiu; Lin, Zhiyu; Wang, Chen; Cai, Xinghan; Yu, Jun; Kang, Lu; Wu, Ying; Xu, Jeffrey; Si, Mengwei Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2025; Vol. 43, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/5.0268479 DOI |
4. | Study on the thermocyclic protection performance of ultrahigh temperature ceramic SiC-Si-Hf(Ta)B2 coating for static oxidation and ablation environments up to 2300 °C Author: Yang, Jiani; Guo, Xiaoyang; Tian, Yuan; Jiang, Yan; Wang, Na Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2025; Vol. 43, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/6.0004561 DOI |
5. | Study on the modification of TC11 titanium alloy microarc oxidized film layer by ZrO2 particles Author: Xu, Jia; Wang, Cenyi; Yan, Xing; Li, Hao; Liu, Jiayao; Yang, Mei Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2025; Vol. 43, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/6.0004581 DOI |
6. | Fabrication of soft x-ray windows based on multilayer graphene films Author: Wu, Bingxin; Bi, Hailin; Lin, Wenyu; Mei, Zhengwei; He, Ziyang; Wang, Xudi Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2025; Vol. 43, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/6.0004468 DOI |
7. | Effect of reactive ion etching on the photoluminescence intensity of nitrogen-vacancy color centers in microwave plasma chemical vapor deposition diamond films Author: Liu, Yuan; Xu, Feng; Lou, Chenxukun; Yan, Yue; Shi, Xianqing; Zhao, Wenxuan; Ma, Wang; Zhang, Hailong; Zuo, Dunwen Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2025; Vol. 43, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/6.0004405 DOI |
8. | Application of high-spatial-resolution distributed fiber-optic sensing technique for neutral gas temperature mapping in inductively coupled Ar plasmas Author: Luo, Qian; Lv, Tuo; Wang, Peng-Yu; Zhou, Da-Peng; Gao, Fei; Wang, You-Nian Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2025; Vol. 43, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/6.0004640 DOI |
9. | Sequence modeling for predicting three-dimensional plasma etching profiles with deep learning Author: Guo, Jianming; Mou, Zhiping; Ren, Kun; Ni, Dong; Gao, Dawei Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2025; Vol. 43, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/6.0004669 DOI |
10. | Oxidation behavior of TaNbHfTiZr coatings prepared by double glow plasma surface alloying technique Author: Zhao, Jialei; Yang, Zechen; Shi, Minghui; La, Lingmin; Bukovetskiy, N. A.; Mustafaev, A. S.; Qin, Lin Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2025; Vol. 43, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1116/6.0004584 DOI |
|
|
|
联系我们 | 站点地图 | 友情链接 | 授权代理商 | 加入我们
© 2010-2025 中国: LetPub上海 网站备案号:沪ICP备10217908号-1 沪公网安备号:31010402006960 (网站)31010405000484 (蝌蝌APP)
增值电信业务经营许可证:沪B2-20211595 网络文化经营许可证:沪网文[2023]2004-152号
礼翰商务信息咨询(上海)有限公司 办公地址:上海市徐汇区漕溪北路88号圣爱大厦1803室